【低溫（wēn）裝備】別說你（nǐ）懂特氣，260種特氣用途你都知道嘛？

1
氮氣-N2
純度（dù）要求（qiú）>99.999%,用作標（biāo）準氣、在線儀表標準（zhǔn）氣、校正氣、零點氣、平衡氣；用於半導（dǎo）體器件製備工藝中外延、擴散、化學氣相澱積、離（lí）子注入、等（děng）離子幹刻、光刻、退火、搭接、燒（shāo）結等工序；電器、食品包裝、化學等工業也要用氮氣。
2
氧氣-O2
>99.995%,用作標準氣（qì）在線（xiàn）儀表標準（zhǔn）氣、校正（zhèng）氣、零點（diǎn）氣；還可用於醫療氣；在半導體器（qì）件製備工藝中用（yòng）於熱氧化、擴散、化學氣相澱積、等離子幹刻等工序；以及用（yòng）於光導纖（xiān）維的製備。
3
氬氣-Ar
>99.999,用作標準氣、零點氣、平衡氣；用於半導體（tǐ）器件製備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、氮化、噴射、等離子幹刻、載流、退火（huǒ）、搭接（jiē）、燒結等工（gōng）序；特種混合氣與工業混合（hé）氣也使用氫。
4
氫氣（qì）-H2
>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標（biāo）準氣；在半導體器件製（zhì）備工藝中用於晶休生長（zhǎng）、熱氧化、外（wài）延、擴散、多晶矽、鎢（wū）化、離子注入、載流（liú）、燒結等工序；在化學、冶金等工業中也有用。
5
氦氣-He
>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、醫療（liáo）氣；於半導體器件製（zhì）備工（gōng）藝中晶體生長、等離子幹刻、載流等工序；另外,特種混合氣與工業混合氣也（yě）常用（yòng）。
6
氯氣-Cl2
>99.96%,用（yòng）作標準氣、校正氣；用於半導體器件製備工藝中晶體生長（zhǎng）、等離子幹刻（kè）、熱氧化等工序；另外,用於水淨化、紙漿與紡織品的漂白、下業廢品、汙水、遊泳池的衛生處（chù）理；製備許多化學產品。
7
氟（fú）氣-F2
>98%,用於半導體器（qì）件製備工藝中等（děng）離（lí）子幹刻；另外,用於（yú）製備（bèi）六氟化鈾、六氟化硫、三氟（fú）化硼和金屬氟化物等。
8
氨氣（qì）-NH3
>99.995%,用作標準氣、校正氣（qì）、在線儀表標準氣；用於半導體器（qì）件製備工藝中（zhōng）氮化工序；另外,用於製冷、化肥、石油、采礦、橡（xiàng）膠等工業。
9
氯化氫-HCI
>99.995%,用作標（biāo）準氣（qì）；用於半導體器件製備工藝中外延、熱（rè）氧化、擴散等工序；另外,用於橡膠氯氫化（huà）反應中的化學中間體、生產乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。
10
一氧化氮-NO
>99%,用作標準氣、校正（zhèng）氣；用於半導體器件製備工（gōng）藝中化學氣（qì）相澱積主序；製備監控大（dà）氣汙染的標準混合氣。
11
二氧化碳（tàn）-CO2
>99.99%,用（yòng）作標準氣、在線儀表標推氣、校正氣；於半導體器件製備工藝中氧化、載流工序警（jǐng）另外,還（hái）用（yòng）於特種混合氣、發電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑（jì）、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射（shè）劑、食品貯存保護氣等。
12
氧化（huà）亞氮-N2O,(即笑氣)
>99.999%,用作標準氣、醫療氣；用於（yú）半導體器件製備（bèi）工藝中化學氣（qì）相澱（diàn）積、醫月麻（má）醉（zuì）劑、煙霧噴射劑（jì）、真空和帶壓檢漏；紅外光譜分析（xī）儀等也用。
13
硫（liú）化氫-H2S
>99.999%,用作標準（zhǔn）氣、校正氣；用於半導體器（qì）件製備工藝中等離子幹（gàn）刻（kè）,化學工（gōng）業中用於製備硫化物,如硫化鈉,硫化有機物；用作溶劑；實驗室（shì）定量分析用。
14
四氯化碳-CCl4
>99.99%,用作標準氣；用於半導體器件製備工藝中外延丫、化學氣（qì）相澱（diàn）積等工序；另外,用作溶劑、有機物的氯化劑、香料的浸（jìn）出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分（fèn）析試劑、製備氯（lǜ）仿（fǎng）和藥物等。
15
氰化氫-HCN
>99.9,用於半導體器件製備工藝中等離子幹刻工（gōng）序；製（zhì）備氫氰酸溶液,金屬氰化物、氰氯化物；也用於製備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間（jiān）體。
16
碳酰氟-COF2
>99.99%,用於半尋體器件製備（bèi）工藝中等（děng）離子幹刻工序；另外,用作氟化劑。
17
碳酰硫-COS
>99.99%,用作校正氣；用於半導體器件製備工（gōng）藝中離子注入工序；也用於（yú）有些羧基（jī）、硫代酸、硫代碳（tàn）酸鹽和噻唑的合成。
18
碘（diǎn）化氫-HI
>99.95%,用於半導體器件製備工藝中離（lí）子注入工序；還用於氫碘酸（suān）溶（róng）液製備。
19
嗅化氫-HBr
>99.9%,用於半導體製備工藝中等離子幹刻工序；用作還原劑,製備有機及無機澳化合物。
20
矽烷-SiH4
>99.999%,電（diàn）阻率>100Ω/cm2,用於半導體器件製備工藝中外延、化（huà）學氣（qì）相澱積等工序。
21
乙矽烷（wán）-Si2H6
>99.9%,用於半導體製（zhì）備工（gōng）藝中化學氣相澱積。
22
磷烷-PH3
>99.999%,用於半導體器件製備工藝中外延、擴散（sàn）、化學氣相澱（diàn）積、離子（zǐ）注入等工序；磷烷與二氧化碳混合的低濃（nóng）度氣體,可用於殺死（sǐ）糧倉的蟲卵和製備阻火化合（hé）物。
23
砷烷-AsH3
>99.999%,用於半導體器件（jiàn）製備（bèi）工藝中外（wài）延、擴散（sàn）、化學氣相澱積、離子注入等工序。
24
硼烷-B2H6
>99.995%,用於半導體器件製備工（gōng）藝中（zhōng）外延（yán）、擴散、氧化等工（gōng）序；用於有些化學工業合成過（guò）程:如氫硼化（huà）反應(即生成醇類),有機功能的衰退,製備較高的硼（péng）烷衍生物和碳甲硼烷化合物。
25
鍺（zhě）烷-GeH4
>99.999%,用（yòng）於半導體器件製備工藝中（zhōng）外延、離子注入工序（xù）。
26
銻烷-SbH3
>99.999%,用於半導體器件製備工藝中外延、離子注入工序。
27
四氧甲矽烷-Si(OC2H5)4
>99.99%,用（yòng）於半導體器件製備工藝中化學氣相澱積工序。
28
乙烷-C2H6
>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用於半導體器件製備工藝（yì）中等離子幹刻工序；還（hái）用於冶（yě）金工業（yè）的熱處理,化（huà）學工業（yè）中製（zhì）備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。
29
丙烷-C3H8
>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表（biǎo）標（biāo）準氣；用於半導體器件製備工藝中等離子幹刻工（gōng）序；另外,用於（yú）燃料、冷凍劑（jì）、製備（bèi）乙烯與丙烯的原料。
30
硒（xī）化氫-H2Se
>99.999%,用於半導體器件（jiàn）製備工藝中擴散、離子（zǐ）注入工序。
31
碲化氫-H2Te
>99,999%,用於（yú）半導體（tǐ）器件製（zhì）備工藝（yì）中（zhōng）擴散、離子注入工序。
32
二氯二氫矽-SiH2Cl2
>99.999%,用於半導體（tǐ）器（qì）件製備工藝中外延、化學氣相澱積工序。
33
三氯氫矽-SiHCl3
>99.999%,用於半（bàn）導體器件製備工藝中外延、化（huà）學氣相澱積工序。
34
二甲（jiǎ）基碲-(CH3)2Te
>99.999%,用（yòng）於半導體器件製（zhì）備（bèi）工（gōng）藝中擴散、離子注入（rù）工序。
35
二乙基碲-(C2H5)2Te
>99.999%,用於半（bàn）導體器件製備工藝（yì）中擴散、離子注入（rù）工序。
36
二甲基鋅(CH5)2Zn
>99.999%,用於半導體（tǐ）器（qì）件製備工藝（yì）中化學氣相澱積（jī）工序。
37
二乙基鋅(C2H5)2Zn
>99.999%,用於半導體器件製備工（gōng）藝中化學氣相澱積工（gōng）序。
38
三氯化（huà）磷-PCl3
>99.99%,用於半導體器件製備工藝中擴散,鍺的外延（yán）生長（zhǎng）和離子注入工藝；PCl3是有機物的良好氯化劑；也用於含磷有機物的合成。
39
三氯化砷-AsCl3
>99.99%,用於半導體器件製（zhì）備工藝中的外延和離（lí）子注入。
40
三氯化硼-BCl3
>99.99%,用於等離子幹刻、擴散；作硼（péng）載（zǎi）氣及一些有（yǒu）機反應的催化劑；精煉（liàn）鎂、鋅、鋁、銅合金時從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物（wù）。
41
四氯化矽-SiCl4
>99.999%,用於半導體器（qì）件製備工藝中（zhōng）外延、化學氣相澱積工序。
42
四氯化錫-SnCl4
>99.99%,用於外（wài）延（yán）、離子注入。
43
四氯化鍺-GeCl4
>99.999%,用於離子注入（rù）。
44
四（sì）氯化欽-TiCl4
>99.99%,用於等離子幹（gàn）刻。
45
五氯化磷-PCl5
>99.99%,用於外延、離子注入。
46
五氯化（huà）銻-Sb=Cl5
>99.99%,用於外延、離子注入（rù）。
47
六氯化鑰-MoCl6
>99.9%,用（yòng）於化學氣相澱積。
48
三嗅（xiù）化硼-BBr3
>99.99%,用於半導體器件製備工藝中離子注入工序和製備光導纖維。
49
三嗅化（huà）磷-PBr3
>99.99%,用於外延、離子注入（rù）。
50
磷酞氯-POCI3
>99.999%,用於擴散工序。
51
三（sān）氟（fú）化硼-BF3
>99.99%,用（yòng）於離子注入；另外,可作載氣、某些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時（shí）從熔化金屬中除（chú）掉氮、氧、碳化物。
52
三氟化磷-PF3
>99%,用於外延、離子注入工序；另外（wài）用作氟化劑。
53
三氟化砷-AsF3
>99%,用於（yú）外延、離子注入工序；另外用作氟化劑（jì）。
54
二氟（fú）化氨-XeF2
>99.9%,用於（yú）外延、離子注入工序；用於固定模具氨（ān）的考察及原子（zǐ）反應堆排放廢氣中氮的測定（dìng）。
55
三氟氯甲烷-CClF3,(R-13)
>99.995%,用於等離子幹刻工（gōng）序；冷凍劑（jì）、空調均可用。
56
三氟甲烷-CHF3,(R-23)
>99.999%,用於（yú）等離子幹刻工序;低溫冷凍劑。
57
三氟化氮（dàn）-NF3
>99.99%,用於等離子幹刻工序;火箭推進劑、氟化劑。
58
三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1)
>99.99%,用於等（děng）離子（zǐ）幹刻（kè）工序;還用於空調、低溫冷凍及滅火劑。
59
三氟化硼-11-B11F3
>99.99%,用於（yú）離子注（zhù）入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有（yǒu）96%同位素BF3);還用於製備（bèi）光導（dǎo）纖維。
60
四氟化碳-CF4,(R-14)
>99.99%,用於（yú）等離子幹刻工序;在很低溫度下作為低溫流體用;也用於中性及惰性氣體。
61
四（sì）氟化硫-SF4
>98%,用於（yú）等離子幹刻工序;氟化劑、表麵處（chù）理劑。
62
四（sì）氟化矽-SiF4
>99.99%,用（yòng）於化學氣相澱積工序;製備氟矽酸及其鹽類。
63
四氟化鍺-GeF4
>99.999%,用於離子注（zhù）入工序。
64
五氟（fú）化磷（lín）-PF5
>99.9%,用於離子（zǐ）注入、等離子幹刻工序;另外,用作氟化劑,聚合、烴化及脫烴化反應、烴類裂化反應時作催化劑。
65
五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115)
>99.99%,用於等離子幹刻工序;另外,作冷凍劑、煙霧噴氣劑。
66
五氟化砷（shēn）-AsF5
>99%,用於外延、離子注入工序（xù）,氟化劑。
67
六氟乙烷-C2F6,(R-116)
>99.99%,用於等（děng）離子幹刻工序;用作冷（lěng）卻、冷凍劑和空調;單體生產的原料;化學反應中的添氟劑、電器設備的絕緣劑。
68
六氟化硫-SF6
>99.99%,用（yòng）作（zuò）標（biāo）準氣;用於化學氣相澱積工序;由於在高電壓下具有很高（gāo）的電阻,用作電器設備的絕緣劑（jì）;檢漏氣（qì）體,實驗室中作色（sè）譜儀（yí）的（de）載（zǎi）氣。
69
六氟化鎢-WF6
>99.99%,用於化學氣（qì）相澱積（jī）工序（xù）;強（qiáng）烈（liè）的（de）氟化劑;也用作鎢載體。
70
六氟化氧-(CF3)2O2
>99.99%,用於等離子幹刻工序。
71
六氟乙酰-(CF3)2CO
>99.99%,用（yòng）於等離子（zǐ）幹刻工序（xù）。
72
六氟乙酞氧-(CF3CO)2O
>99.99%,用於等離（lí）子幹刻工序。
73
六氟（fú）化錸-ReF6
>97%,用於離子注（zhù）入工序;氟化劑。
74
八氟丙（bǐng）烷-C3F8,(R-218)
>99.9%,用於等離子幹刻（kè）工序;與氟利昂（áng）相混合作冷凍劑;高壓電的絕緣劑。
75
八氟環丁烷-C4F8,(RC318)
>99.99%,用於等離子幹刻工序（xù）;用作（zuò）冷（lěng）卻劑、冷凍劑;作電器和電子設備的氣體絕緣（yuán）。
76
十二氟戊烷-C5F12
>99.9%,用於（yú）等離子（zǐ）幹刻工序;也可與CF4相混用。
77
三甲基鋁-(CH3)3Al
>99.999%,用於化學（xué）氣相澱積工序;金（jīn）屬的有機合成。
78
三甲基镓-(CH3)3Ga
>99.999%,用（yòng）於化（huà）學氣相澱積工序;金屬的有機合成。
79
三（sān）甲基（jī）銻-(CH3)3Sb
>99.999%,用於化學氣相澱（diàn）積工序;金屬的有（yǒu）機合成。
80
三甲基錮-(CH3)3In
>99.999%,用於化學氣相（xiàng）澱積工序;金屬的有機合成。
81
三乙基鋁-(C2H5)3Al
>99.999%,用於化學氣相（xiàng）澱積工序;金屬的有機（jī）合成。
82
三乙基镓-(C2H5)3Ga
>99.999%,用於化學氣相澱積工序;金屬的有機合成。
83
四（sì）乙基鉛-(C2H5)4Pb
>99.999%,用於化學氣相澱積工（gōng）序。
84
丙烯腈-C3H3N
>99.9%,用於等離子幹刻（kè）工序。
85
1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3
>99.99%,用作標準氣、校正氣、醫療氣;用於半（bàn）導體器件製備工藝中熱氧化（huà）工序;另外,用於金屬的脫脂劑（jì）和脂肪（fáng）、油（yóu）、石蠟等萃取劑,衣服幹洗,冷凍（dòng）劑,殺菌劑。
86
甲烷（wán）-CH4
99.999%,用作標準氣、校正氣（qì）、在線儀表標準氣;作燃料、宇宙飛船中氣體電池（chí）。
87
甲烷硫醇-CH3SH
>99.5%,用作標準氣、校（xiào）正氣;用於有（yǒu）機合成;作為噴氣燃料添加劑,殺真菌劑（jì）和蛋氨酸的中間體。
88
一甲胺-CH3NH2
99%,用於硫化促進劑、藥物、染料和炸藥等,並作（zuò）溶劑、有機合（hé）成、醋（cù）酸人造纖維。
89
甲醇-CH3OH
>99.9%,用作標準氣,與空氣混合後作校（xiào）正氣;用於製備甲（jiǎ）醛和農藥鄉用於有機物質的萃（cuì）取劑和酒精的變性劑。
90
二甲胺-(CH3)2NH
>99%,用作（zuò）抗氧化劑;在溶液中作浮洗.劑、汽油穩定劑、橡膠加速（sù）劑等。
91
二甲醚-(CH3)2O
>99.9%,在化學工業（yè）中用（yòng）作配製合成橡膠和甲硫醚;用作甲基劑、萃取劑、溶劑;也用作製（zhì）冷劑。
92
乙炔-C2H2
>99.9%,用作（zuò）標準氣（qì）、校正氣;化學（xué）工業中的中間體,如製備乙烯、乙醛（quán）、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等;用於原子吸收光譜。
93
乙烯-C2H4
>99.99%,用作（zuò）在線儀表標準氣、標（biāo）準氣、校正氣;是化學工業合成中的重要原料,生產塑料（liào）的中間體,生產乙醇、醋酸、氧化（huà）乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料;也用於焊接和切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的（de）加速劑。
94
氧化乙烯-C2H4O
99.9%,用（yòng）作標（biāo）準氣、校正氣、醫療氣;與CO2、R11、R21相混合作消毒劑,文物保管（guǎn）,皮革消毒,清洗衣料均可采用;化學工業中用作中間體,生產液體或固體聚乙二（èr）醇（chún）、乙醇胺類等。
95
溴代乙烯-C2H3Br
>99.9%,用作有機合成的中間體,用（yòng）聚合法與共聚法來（lái）製備塑料。
96
一乙胺-CH3CH2NH2
>99%,水溶液中含有70%乙胺,作為下列化學工業製（zhì）備中的中間體:著色劑（jì）,電鍍池、硫化（huà）增速（sù）劑（jì）等;還（hái）用於製藥（yào）、表麵活性（xìng）劑（jì）、萃取劑。
97
四（sì）氟（fú）乙烯-C2F4
>99%,在生產塑料時作為一種重要的單體,如泰氟隆等（děng）。
98
乙（yǐ）醛-CH5CHO
>99.9%,用作（zuò）校正氣;用於製備酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成樹脂等（děng）。
99
二甲基二硫醚-CH3S2CH3
＞99.9%,用作校正氣、溶劑。
100
二甲基硫醚-CH3SCH3
>99.9%,用作校正氣、溶劑。
101
乙醇-C2H5OH
>99.9%,用作（zuò）校正氣（qì）;用於溶劑,製備染料、塗料、藥物、合成橡膠等。
102
乙酰氯-CH3COCl
99.99%,用於乙酰（xiān）化劑和化學試製。
103
1-羥亞乙基（jī）-1,1雙磷酸-C2H8P2O7,>99.99%,簡稱HEDPA
用於特殊（shū）的洗（xǐ）滌、紡織漂白分離劑、磨料和環境衛生（shēng）;在（zài）石油和氣（qì）田中用作防（fáng）腐劑。
104
環丙烷-(CH2)3
>99%,用於有機合成;醫藥上作麻醉劑（jì）。
105
甲基乙炔-C3H4
>99%,用作在線儀表標準氣、校正氣;用（yòng）於製備丙酮;化學工業中作合成中間體（tǐ）。
106
六氟丙酮-CF3COCF3
>99.9%,是強烈的反應氣,常與脂肪酮發生化學反應,用這些酮類可製備不同（tóng）的產品（pǐn）,如（rú）穩定的液體、溶劑、水泥、單體（tǐ）、共聚物,以及農業及藥物產品。
107
三甲胺-(CH3)3N
>99%,用作標準（zhǔn）氣,溶液中含25%的三甲胺可作（zuò）抗（kàng）組胺治療處（chù）理;在化學工業中作中間體,用來生產殺（shā）蟲劑、潤濕劑、發泡劑、合成樹脂等表麵活性劑。
108
丙烯-C3H8
>99.9%,用作標準氣、校正氣、在線（xiàn）儀表標準氣;在化學工業上用作製備異丙醇、氧化丙烯、氧基醇類、四氯（lǜ）化（huà）碳、聚丙烯等。
109
丙二烯-C3H4
99%,在線（xiàn）儀表標準氣;用於有機合成中間體。
110
氧化丙（bǐng）烯-C3H6O
>99.9%,(又稱1,2-環（huán）氧丙烷),用（yòng）於製備丙二醇和泡沫塑料;也是醋酸纖維素、硝酸纖（xiān）維素和樹脂等的溶劑。
111
甲基乙烯醚-CH3COCH3
>99.5%,用作（zuò）標準氣;用於有機合成中間體;塑料和合成樹脂（zhī）製備時的原料（liào）及共聚物的生產。
112
六氟丙烯-C3F6
>99.9%,用於有機（jī）合成中（zhōng）間體。
113
丙酰（xiān）氯-CH3CH2COCl
＞99.9%,用於製備鹽酸、丙酸;用（yòng）作氧化劑。
114
正丁烷（wán）-C4H10
>99.99%,用作標準氣、校正氣;用作燃料,商業上主要和異丁（dīng）烷混合用;化學工業（yè）中作製備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等;作煙霧噴（pēn）射劑;充入溫度（dù）計球作標準蒸汽壓型的（de）壓（yā）力表;與氦混合用作電離粒子計算器。
115
異丁烷（wán）-iC4H10
>99.99%,用作（zuò）標準（zhǔn）氣、校正氣;用作燃料,商（shāng）業上主要和（hé）異丁烷混合用;化學工業中作製備中間體:乙烯、丙（bǐng）烯、丁烯等（děng）;作煙霧噴射劑;充入溫度計球作標準蒸汽壓型的壓力（lì）表;與氦混合用作電離粒子計算器。
116
乙基乙炔C4H5
>99%,用作標準氣、校正氣;化學工業中作為合成中間（jiān）體。
117
環丁烷-(CH2)4
>99%,作為液體溶劑,或與其它溶劑混合使（shǐ）用;也（yě）可（kě）作為合成中（zhōng）間體。
118
丁烯-1-C4H8
>99.9%,用作標準氣、校正氣;用於有（yǒu）機化合（hé）物的（de）製備（bèi）中間體;催化脫氫生成丁二烯。
119
順丁烯（xī）-2C4H8
>99%,用作標準氣、校正氣;用於有機化合物的製備中間體;催化脫氫（qīng）生（shēng）成丁二烯、酸式硫酸鹽,加水生成丁醇-2等;也可用作溶劑（jì）。
120
反丁（dīng）烯-2-C4H8
>99%,用作標準氣、校正氣;用於有（yǒu）機（jī）化合物的製備（bèi）中間體;催化脫（tuō）氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽,加水生成丁醇-2等;也可用作溶劑。
121
順與反丁烯-2-C4H8
>99%,用作校正氣;用（yòng）途同(119)。塑料和樹脂（zhī）,生產尼龍-6;也是火箭燃料組成部分。
122
1,3丁二烯（xī）-C4H6
>99%,用（yòng）作校正氣;用聚合法和共聚法來生產合成橡膠、塑料和樹脂,生（shēng）產尼龍-66;也是火箭燃料組成部分
123
異丁烯-iC4H8
>99.9%,用作校正氣,用於有機中間體,使氧（yǎng）化產生丙酮和（hé）甲酸,在液相或氣相中（zhōng）催化使生成雙異丁烯等;也可用來製備合成橡膠,有很高的耐（nài）酸堿度;是良好的絕緣體。
124
八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯)
>99.5%,用於有機合成中間體。
125
二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5
99.99%,一接觸到氧化劑,反應劇烈;與二氧化碳混合,遇到汞會產生爆（bào）炸反應。
126
正戊烷-C5H12
>99%,用作標準氣、校正氣;作溶（róng）劑及合成中（zhōng）間體。
127
異戊烷-iC5H12
>99%,用作標準氣、校（xiào）正氣;作溶劑及合成中間體。
128
2,2二甲基丙烷-C5H12,(又叫新戊烷)
>99.9%,是生產異丁烯的原料,用於生產合成丁烯（xī）橡膠。
129
3-甲基-1-丁烯（xī）-C5H10,(甲基丁烯)
>99.95%,用於有機合成中間體;也用於增加燃料（liào）的辛烷值;用於塑料的聚合。
130
特戊酰氯-(CH3)3CCOCl
>99.99%,可製備氯化氫與特戊酸;可與強氧化劑反應。
131
苯-C5H6
>99.999%,用作標準氣、校正（zhèng）氣、零點氣;是染料、塑料、合成像膠、合成樹脂、合成纖維、合成藥物和農藥的原料。
132
己烷-C6H14
>99.9%,用作標準氣、校正氣;作溶劑（jì）。
133
三乙基鋁（lǚ）三氯-C6H15Al2Cl3
>99.99%,用於合成中間體;烯類聚合催化劑,芳烴衍生物聚合的催化劑。
134
環己（jǐ）烷-C6H12
>99.99%,用作標準氣;用於製備環己醇和環己酮;用於合成（chéng）耐6;在塗料工業（yè）中廣泛用作溶劑,也（yě）是樹脂、脂肪、石蠟、油類的極好溶劑。
135
己二酞氯（lǜ）-ClOC(CH2)4COCl
>99.99%,用於製備氯化氫與肥酸。
136
甲苯-C7H8
>99.99%,用作零點氣、校正氣;用於製造糖精、染（rǎn）料、藥物和炸藥（yào）等;也用作溶劑。
137
苯乙烯-C8H8
>99.9%,用作校正氣;用於製樹脂、塑料、合成橡膠等。
138
2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl
>99.9%,可用於製備氯化氫和2-乙基（jī）己酸。
139
辛酰氯（lǜ）-CH3,(CH2,)6COCl
>99.9%,是（shì）氧化劑;可用於製備鹽酸與辛酸。
140
氨基咪哇酮（tóng）-C9H15,N3O3
>99.9%,用作還原劑。
141
壬酰氯（lǜ）-CCH3(CH2)7COCl
>99.9%,用於製備鹽酸與壬（rén）酸。
142
新癸酰氯-C10H19OCl
>99.9%,用於製備鹽酸與新癸酸。
143
三異丁（dīng）基鋁-C12H27,Al,(簡稱TIBA)
>99.99%,用於合成中（zhōng）間體,是聚合烯類和二烯類的催化劑（jì）。
144
十二酰（xiān）氯-CH3(CH2)10COCl
>99.9%,用於製備鹽酸與月桂（guì）酸（suān）。
145
十八酰氯-CH3(CH2)18COCl
＞99.9%,用於製備（bèi）鹽酸與硬醋（cù）酸。
146
酚（fēn）酞黃-C20H14O4
>99.9%,醫療用作瀉藥。
147
空氣(或合成空氣)-21%O2,79%N2,用作零點氣
超零點級空氣中含CnHm<0.lppm,零點（diǎn）級空氣中含CnHm<0.2ppm。零點級空（kōng）氣經常（cháng）用於色譜儀火焰離（lí）子化檢定器（qì）和總碳量分析儀中的氧化劑（jì）。
148
仲氫-H2
>99.99%,用作火箭（jiàn）推（tuī）進劑;核工業中用於氣泡室;冷電子工程低溫液態（tài）供固體電路研究用。
149
純水-H2O
>99.9999%,用作標準氣、校正（zhèng）氣。
150
氖-Ne
>99.999%,用作標準氣、特種混合氣;用於充發（fā）光燈泡、電子管、訊號燈、等離子體研究、熒光燈中啟（qǐ）動器、火花室、蓋（gài）革（gé）一彌勒管、
激光器;用作低溫冷卻（què）劑。
151
氪氣-Kr
>99.995%,用作（zuò）標準氣、特種混合氣、燈泡與電子工業用氣。
152
氙（xiān）氣-Xe
>99.995%,用作標準氣、特種混合氣,用於電光源、電子工業、充填閘流管和半波整流管。
153
溴氣-Br2
>99.99%,用於化（huà）學工業（yè）中製備（bèi）澳（ào）化氫和其它嗅化合物、氧化劑（jì）、實驗試（shì）劑;也用於染（rǎn）料和攝影工業。
154
臭氧-O3
>99.99%,用（yòng）作（zuò）醫療氣,用於外科設備的消毒,人類用水和遊泳池的淨化,工（gōng）業廢品的處理（lǐ）,汙物消毒;紡織纖維（wéi）、紙漿和糖類的漂（piāo）白,樟腦的（de）製備,礦物油及其衍生物的淨（jìng）化。
155
氰氣-C2N2
>99%,用作（zuò）焊接與切割耐熱金屬,與氧化劑、臭氧（yǎng）和氟氣混合後作火箭與導（dǎo）彈推進（jìn）劑;醫學上作薰蒸劑;用於許多有機合成中的媒介物。
156
氯化氰-ClCN
>99%,用於有機合成;與薰蒸氣體相混合可作（zuò）熱源。
157
氟化氫-HF
>99.9%,用於（yú）製備氟化物、氟氣（qì）;在異構化、冷凝過程、聚合、幹燥、水（shuǐ）解反應等作為催化劑;在有些有機或無機反應（yīng）中作（zuò）為（wéi）氟化（huà）劑。
158
亞硝酰氯-NOCl
>99%,用於有機化合物的重氮（dàn）化、硝化、氯化作用;也用於石油熟化劑。
159
過（guò）氟二氯氧ClO3F
>99%,用於與氟鹵素類相混合,成為火箭發動機的液態氧化劑;也可供街族化（huà）合物作選擇性（xìng）的氟化劑。
160
碳酰氯-COCl2,(光氣（qì）)
>99.9%,用於染（rǎn）料、藥物、除蕎劑、殺蟲劑、合成泡沫、樹脂和聚合等有機合成;還用作氯化劑。
161
硫酰氟-SOF2
>99.5%,用於製備氟碳化合物;是優良（liáng）的殺蟲薰蒸劑,用於集裝箱、農作物種子、林木種子的（de）薰蒸,倉庫、古建（jiàn）築、園林果木蛀幹性害蟲（chóng）及（jí）白蟻的防治,以及文物檔案（àn）的保護;也用作催化劑。
162
羰基（jī）鎳（niè）-Ni(CO)4
>99.95%,用於製備高純鎳;製成金屬鏡（jìng）及很薄的鎳箔（bó）;是碳化反應中有效的催化劑。
163
羰基鐵-Fe(CO)5
在有（yǒu）的文（wén）獻中寫成（chéng）Fe(CO)4〕,>99.95%,主要作鐵的載體,在汽（qì）油中作抗爆劑。
164
磷酸-H3PO4
>99.99%,用作校正（zhèng）氣;用於製磷酸鹽、甘（gān）油磷酸醋（cù）、磷酸按肥料;還作（zuò）化學試劑。
165
過氙酸鈉-Na4XeO6·8H2O
>99.99%,強氧化劑,可測定水中汞含量。
166
一氧化碳-CO
>99.995%,用作標準氣（qì）、校正氣、在線儀表標準氣（qì）;與氫和其它氣體混合作燃料氣;用於從含有鐵、鑽和銅（tóng）的礦砂（shā）中回收（shōu）鎳;也可用於製備酸類、醚類（lèi）和醇類化學品。
167
二氧化硫-SO2
>99.99%,用作標準氣（qì）、校正（zhèng）氣、在線儀表標準（zhǔn）氣;用於啤酒、葡萄酒、肉類的防腐;硫化物和（hé）氧（yǎng）硫化物的製備;油類和食品的漂白劑;硫化紙漿的製備（bèi）;製冰工業的冷卻（què）劑。
168
二氧化氮-NO2(N2O4)
>99.9%,用作標準氣;用於一些氧化反應的催化（huà）劑;在丙烯酸鹽類精餾時用於防止聚合,用（yòng）作有機物的硝化劑、氧化劑、火箭燃（rán）料一（yī）、麵粉漂白劑。
169
二氟化氧-OF2
>99.5%,用作氧化劑,是高能火箭推進劑係統中的組成部分。
170
三氧（yǎng）化二氮-N2O3
>99.5%,與堿化合生成純堿亞硝酸鹽類;在特殊燃（rán）料係統中作氧化劑,也用於萜烯類的（de）鑒定。
171
三氧化氙-XeO3
>99.99%,用於通過氧化還原代（dài）替測定氧化溶液的含量(Xe6→Xe0)。
172
三氧化硫-SO3
>99.99%,用於化學工（gōng）業中（zhōng）製備硫酸（suān）與發煙硫酸;是硫化劑;也用於染料工業。
173
三氟化氯-ClF3
>99.5%,用作火箭導彈推進劑,當接觸到（dào）燃料時(自發能力)能使其立刻開始反應;也用作油井管道切割劑,管道深達2公裏也可（kě）用它來切斷管子。
174
三氟化溴-BrF5
>99.5%,用作氟化劑和電解溶劑;也用於火箭導彈的推進劑。
175
四氟化（huà）氮-N2F4
>99.9%,強氧化劑,可製備三氟化氮。
176
四氟化氙-XeF4
>99.9%,可用（yòng）於製備（bèi）過氙化合物和三氧化氙溶液。
177
五氟化溴-BrF5
>99%,用作氟化劑;也用於火箭導彈的（de）推進（jìn）劑。
178
五氟化氯-ClF5
>99%,強烈的氧化劑,腐（fǔ）蝕性比三氟化氯小,可製（zhì）備有機及無機氟化（huà）物;可（kě）作（zuò）空間推（tuī）進器的助燃劑。
179
五氟化碘-IF5
>99%,用作氟化劑和燃燒（shāo）劑。
180
六氟化鉬-MoF5
>99.9%,強烈的氟（fú）化劑,也用於鑰的載體。
181
六氟化鉬-MoF5
>99.9%,強烈的氟化劑,也用於鑰的載體。
182
氟三氯甲烷(R11)-CCl3F
>99.95%,用於冷凍工業、空調、溶劑
、滑冰場、鹽水和海水裝置、煙霧噴（pēn）射劑、發泡（pào）劑、檢漏、紡織品的幹（gàn）洗。
183
二氟二氯甲烷(R12)-CCl2F2
>99.9%,用作標準（zhǔn）氣、校正氣;用於低溫空調（diào）、食（shí）品貯藏、冷凍工業、煙霧噴射劑、檢漏、膨（péng）脹劑（jì）、氣相絕緣材料。
184
二氟氯溴甲烷（wán）(R12B1)-CBrClF2
>99.9%,用於石油、丙酮、二硫化碳生產（chǎn）中及電器著火（huǒ）時的滅火劑。
185
二氟（fú）二溴甲烷(R12B2)-CBr2F2
>99.9%,用於快速聚合;用作滅火（huǒ）劑。
186
二氯氟甲烷(R21)-CHCl2F
>99.9%,用於氣候很熱時的空調、冷凍劑、溶劑、煙霧噴（pēn）射劑、化學媒介物。
187
二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2
>99.9%,用於冷卻（què）和空調;在低溫噴霧特
殊情況下作煙霧噴（pēn）射劑;氟（fú）化聚（jù）合物的生產和檢漏。
188
二氟（fú）甲烷(R32)-CH2F2
>99%,用作冷（lěng）凍劑,與五氟氯乙烷(R115)混合後形成共沸混合物的冷凍劑。
189
氯甲烷(R40)–CH3Cl
>99.5%,用作冷凍劑,局（jú）部麻醉（zuì）處理;氣溶膠工業中當作噴射氣體;有機合成（chéng）中用（yòng）作甲基劑;作溶劑或萃取劑。
190
溴甲烷(R40B1)-CH3Br
>99.9%,用（yòng）於有機合（hé）成(著色劑)中甲基劑;低溫（wēn）溶劑、冷凍劑;土（tǔ）壤與種子的薰蒸劑（jì）。
191
氟甲烷(R41)-CH3F
>99.9%,以混合物用作非燃（rán）燒性的煙霧（wù）噴射劑。
192
l,1,2,-三氯三氟乙（yǐ）烷(R113)-C2Cl2F3,(俗稱TTE)
>99.9%,用作冷凍劑、傳熱介（jiè）質;製備三氟氯乙烯(R1113)的中（zhōng）間媒介物。
193
1,2-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4
>99%,用作冷凍、冷卻、空調（diào）,單獨（dú）與二氟二氯甲烷(R12)混合作為化妝品煙霧噴射劑。
194
1,2-二嗅四（sì）氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4
>99.5%,用作溶（róng）劑、滅火劑,與其它（tā）氟碳化合物相混合作（zuò）噴射劑。
195
五氟氯乙烷(R115)-C2ClF5
>99.9%,用作（zuò）冷凍劑、煙霧噴射劑。
196
二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2
>99%,用（yòng）作冷凍劑、溶劑（jì）、與非（fēi）燃燒性的鹵碳類化合物相混合作噴射劑。
197
三氟乙烷(R143)-C2H3F3
>99.9%,用（yòng）作冷凍劑。
198
1,1-二氟乙烷(R152A)-C2H4F2
>99%,用作冷凍（dòng）劑（jì）、煙（yān）霧噴射劑、有機合成中間媒介物。
199
氯（lǜ）乙烷(R160)-C2H3Cl
>99.9%,用於局部麻醉（zuì）的醫（yī）療處理,外科和（hé）皮膚科的噴霧醫（yī）療;在染料工業中當（dāng）作乙基劑、冷凍劑、溶劑、殺蟲劑的生產。
200
氟乙烷(R161)-C2H5F
>99.9%,用於合成中間媒（méi）介物。
201
R-12與R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5
>99.9%,用作冷凍劑、空調。
202
R-22與R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2
>99.9%,用作冷凍劑、空調、噴霧。
203
R-23與R13共（gòng）沸混合物(R503)-CClF3/CHF3
>99.9%,用作冷凍劑、空（kōng）調。
204
全氟（fú）丁烷(R601)-C4F10
>99%,用作絕緣氣體。
205
三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3
>99%,用（yòng）於製備潤滑脂、油類、
蠟類（lèi）、塑料的（de）聚合劑,聚三氟（fú）氯乙烯的單體。
206
三氟溴乙烯（xī）(R113B1)-C2BrF3
>99%,用於聚合反應和化學中間體。
207
二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2
＞99.9%,用於化學合成中（zhōng）間體。
208
1,1-二氟乙烷(R1132A)C2H2F2
>99%,是一個很重要的單體,用（yòng）於生產塑料及彈性體。
209
氯乙烯(R1140)-C2H3Cl
>99.9%,用作標準氣（qì）;用作聚合劑、有機合成的中間體。
210
氟乙（yǐ）烯(R1140)-C2H3F
>99.9%,用作聚合劑、有機合成的（de）中間體（tǐ）。
211
氦-3–He3
>99.99%,充計數（shù）管;作稀釋製冷機超低溫冷源,可達（dá）4.5×10-3K。
212
氦-4-He4
>99.99%,在空間應用的低溫火箭燃料、核反應堆中（zhōng）重水及（jí）所有常溫與低溫（wēn）的（de）液體（tǐ）均可用氦-4作壓送（sòng）氣（qì）。
213
氘-D2
>99.95%,在核工業研究（jiū）中應用在氖核加速器中作為拋射體;當放射丫能射線時作為中（zhōng）子源;在（zài）研究化（huà）學反應時,包括氫化合物,可（kě）作為軌跡用;用於生產重水(D2O)。
214
氚（chuān）-T2
>99.95%,用作標準氣,控製每升為1000微居裏,有很廣泛的活潑性,與（yǔ）氖氬混（hún）合作為載氣,可用於檢測微量氮氣及（jí）其它稀有氣體。’
215
氧-18-O218
>99%,可製備H218O、D218O、S18O2。
216
氮-15-N215
>99%,可製備15NH3、16NO、15NO等。
217
氬-36–Ar36
>99.99%,計量值用（yòng）。
218
氬-40-Ar40
>99.99%,計（jì）量值用（yòng）。
219
氖（nǎi）-20Ne20
>99.99%,計量值用（yòng）。
220
氖-22Ne22
>99.99%,計（jì）量值用。
221
氪-85-Kr85
>99.99%,標準氣（qì）,控製每升為10微居裏,充燈（dēng）泡用。
222
氪-86-Kr86
>99.9%用作標準氣。
223
氙-133-Xe133
>99.9%,充燈泡用（yòng）。
224
碳-13-C13
>99%,可製備13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。
225
碳-14-C14
>99%,用作標準氣,控製每升為100微居裏。
226
碳-18-C18
>99.99%,可製備C18O2、C18O。
227
硫（liú）-35-S35
>99%,用作標（biāo）準氣（qì）,控製每升為100微居裏。
228
二甲基鎘-(CH3)2Cd
純（chún）度＞99.999%,電子氣,用於MOCVD。
229
二（èr）乙基鎘-(C2H5)2Cd
>99.999%,電子氣,用於MOCVDo
230
四甲基錫（xī）-(CH3)4Sn
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
231
四乙基錫（xī）-(C2H5)Sn
>99.999%,電子氣,_用於MOCVD。
232
三甲基砷-(CH3)3As
>99.999%,電子氣,用（yòng）於MOCVD。
233
三乙基砷-(C2H5)3As
>99.999%,電（diàn）子氣,用於MOCVD。
234
三乙基銻-(C2H5)3Sb
>99.999%,電（diàn）子氣,用於MOCVD。
235
二乙基銦-(C2H5)2ln
>99.9999%,電（diàn）子（zǐ）氣,用於MOCVD。
236
二甲基銦-(CH3)2In,)
99.9999%,電子（zǐ）氣,用於MOCVD。
237
二乙基鎂-(C2H5)2Mg
>99.999%,電子氣,用於（yú）MOCVD。
238
二甲基汞-(CH3)2Hg
>99.999%,電子（zǐ）氣,用於MOCVD。
239
二（èr）乙基汞-(C2H5)2Hg
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
240
三甲（jiǎ）基磷（lín）-(CH3)3P
>99.999%,電子氣,用於MOCVD。
241
三乙基（jī）磷（lín）-(C2H5)3P
>99.999%,電子氣（qì）,用於MOCVD。
422
三異丁基（jī）鋁-(i-C4H9)3AI
＞99.9999%,電子氣,用於MOCVD。
243
丙矽烷-Si3H8
>99%,電子氣,用於CVD。
244
三氯化鋁-AlCl3
>99.999%,電子（zǐ）氣,用於外（wài）延。
245
五氟化鉭-TaF5
>99.9%,電子氣（qì）,用於離子注入。
246
五氟（fú）化鉈-TlF5
>99.9%,電子氣,用於離子注入。
247
氯乙烯（xī）-C2H3Cl
99.9%,校（xiào）正氣,用（yòng）作冷凍劑。
248
氟乙烯-C2H3F
>99.9%,校正氣,用於製聚乙烯樹脂和其它單體的共聚物。
10種電子氣
1.三氯甲烷-CHCl3,>99.9%,用於等離子幹刻。
2.三氯乙烷-C2HCl3,>99.9%,用於熱氧化。
3.二甲基二氯矽烷-(CH3)2SiHCl2,>96%,用於外延、化學氣相澱積。
4.二甲基氯矽烷-(CH3)2SiHCl,>96%,用於外延、化學氣相澱積。
5.三甲基氯矽（guī）烷-(CH3)3SiCl,>95%,用於外延、化學氣相澱積。
6.二氟四氯（lǜ）乙烷-C2Cl4F2,>99.9%,用於等離子幹刻。
7.六氟化矽-SiF2,>99.9%,用於（yú）等離子幹刻。
8.八氟甲烷-CF8,>99.9%,用於等離子幹刻。
9.異十氟丁（dīng）烷-i-C4F10,>99.9%,用（yòng）於等（děng）離子幹刻。
10.十二氟乙烷-C2F12,>99.9%,用於等離子幹刻。
2種有機氣（qì）體
1.乙烯基甲（jiǎ）基醚-C3H3O,>99.5%。 2.乙烯基乙炔-CH2CHC2H,>50%。